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        X射線熒光光譜測厚儀(EDXRF)

        簡要描述:X射線熒光光譜測厚儀(EDXRF)
        X射線熒光光譜(XRF)鍍層厚度檢測儀是針對電鍍層厚度測量的專業設備,采用X射線激發樣品中鍍層元素產生特征熒光,通過探測器分析熒光強度推算鍍層厚度。儀器具備無損檢測、多元素分析、高精度高及快速檢測的優勢,支持單點/掃描模式,適用于PCB、連接器、汽車緊固件等鍍層厚度控制,是電鍍行業質量檢測的核心工具。

        • 產品型號:
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新時間:2025-08-20
        • 訪  問  量:616

        詳細介紹

        X射線熒光光譜測厚儀(EDXRF)


        X射線熒光光譜儀(EDXRF)測試電鍍鍍層厚度介紹

        一、技術原理

          X射線熒光光譜儀(Energy Dispersive X-ray Fluorescence, EDXRF)是一種利用X射線激發樣品中原子內層電子躍遷,通過檢測特征X射線能量或波長實現元素定性和定量分析的無損檢測技術。在電鍍鍍層厚度測量中,其核心原理基于以下兩點:

        1. 熒光強度與元素含量關系
          當X射線照射樣品時,鍍層元素吸收能量后發射特征X射線,其強度與元素濃度呈線性關系。通過建立標準曲線,可推算鍍層厚度。

        2. 深度分辨能力
          X射線穿透深度有限,低能X射線(如Mo靶管)可檢測微米級鍍層,高能X射線(如Rh靶管)適用于厚層分析。

        二、測試流程

        1. 樣品準備

          • 表面清潔:去除油污、氧化層(如丙酮超聲清洗)。

          • 形狀要求:平面或規則曲面。

          • 基材選擇:避免與鍍層元素發生嚴重干擾(如Ni基鍍層需校準Ni基底影響)。

        2. 儀器參數設置

          • X射線管:根據鍍層元素選擇靶材(如Cu鍍層用Cr靶,Au鍍層用Rh靶)。

          • 濾波片:優化特定元素信號(如Ni鍍層用Al濾波片抑制Cu的Kβ線)。

          • 探測器:Si-PIN探測器適用于輕元素(如Zn),SDD探測器適用于重元素(如Au)。

        3. 測試方法

          • 單點法:快速測量局部厚度(如焊點鍍層)。

          • 掃描法:生成厚度分布圖(如PCB板鍍層均勻性檢測)。

          • 多層鍍層分析:通過不同能量區間的信號分離各層厚度(如Ni/Cu/Sn復合鍍層)。

        三、技術優勢


        優勢說明
        無損檢測無需破壞樣品,適用于成品質量控制(如電子元件鍍層)。
        多元素分析能力可同時檢測鍍層及基材元素(如Zn-Ni合金鍍層中Ni含量分析)。
        高精度厚度測量精度可達±0.1μm(如PCB板化學鍍金層)。
        快速檢測單點測量時間<1分鐘,適合生產線在線檢測。


        四、應用場景

        1. 電子行業

          • PCB板鍍層厚度控制(如化學鍍鎳金層厚度檢測)。

          • 連接器端子鍍層均勻性評估。

        2. 汽車行業

          • 緊固件鍍鋅層厚度驗證(符合ISO 1461標準)。

          • 發動機零部件鍍鉻層耐腐蝕性評估。

        3. 珠寶行業

          • 貴金屬鍍層(如K金、鈀)厚度檢測,防止摻假。

          • 寶石鑲嵌金屬底座鍍層完整性檢查。


          • 詳細技術指標

          • 多鍍層分析,1~5層;

          • 測試精度:0.001 μm;

          • 元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U);

          • 測量時間:10~30秒;

          • SDD探測器,能量分辨率為125±5eV;

          • 探測器Be窗0.5mil(12.7μm);

          • 微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);

          • 6個準直器及多個濾光片自動切換;

          • 高清CCD攝像頭(200萬像素),準確監控位置;

          • 多變量非線性去卷積曲線擬合;

          • 高性能FP/MLSQ分析;

          • 軟件支持無標樣分析;

          • 寬大分析平臺和樣品腔;

          • 集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面;

          • 采用多種光譜擬合分析處理技術;

          • 鍍層測厚分析可達到0.001μm。

          • 單層厚度范圍:

          • 金鍍層0-8um,

          • 鉻鍍層0-15um,

          • 其余一般為0-30um以內,

          • 可最小測量達0.001um。

          • 2.3、多層厚度范圍

          • Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

          • Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

          • Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

          • 2.4、鍍層層數為1-6層

          • 2.5、鍍層精度相對差值一般<5%。

          • 2.6、鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

          • 單層分析精度,以Ni舉例:(相對差值)

          • Ni層厚度(um)

            精度

            <1.0um

            <5%

            1.0-5.0um

            <3%

            5.0-10um

            <3%

            10-20um

            <3%

            >20.0um

            <3%







        X射線熒光光譜測厚儀(EDXRF)


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